真空快速退火炉（RTP）一般都是以红外卤素灯为发热元件，升温速度极快，采用热电偶测温并采用国际{lx1}的PID控制，具有很高的控温精度，快速退火炉具有真空装置，可在多种气氛下工作。大大提高了其使用范围。
真空快速退火炉仪器规格：
真空快速退火炉加热方式：红外卤素钨灯；
{zd0}样品尺寸： 2--6寸，单片；
{zg}温度： 1200度；
真空快速退火炉工作气体：最多3路气体（MFC控制），可通入氧气，氮气及惰性气体；
极限真空：5e-3torr；
真空泵：（可选配分子泵，干泵）；
工艺控制：手动工艺控制；
循环水冷却，提高降温速度；
结构紧凑，经济实惠。
真空快速退火炉应用：
快速热升温工艺（热退火）；
薄栅氧化（纳米器件)；
低熔点压焊（反应金属压焊）；
硅化物构造；
硅化物界点构造等。
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