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氧化铟锡靶材ITO靶材磁控溅射靶材

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氧化铟锡靶材ITO靶材磁控溅射靶材
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科研实验专用氧化铟锡靶材ITO靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

    ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜,通常有两个性能指标:电阻率和透光率。多用于触控面板、触摸屏、冷光片等。

产品参数
中文名 氧化铟锡        化学式 In2O3-SnO2     
分子量 428.343         熔点 287℃
密度 1.2g/ml             纯度 99.99%
支持合金靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

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