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KRI RFICP 140
上海伯东代理美国原装进口 KRI RFICP 140 是一款紧凑的有栅极, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中， RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1200 eV 范围内获得很高的离子密度. 可以输出 600 mA 离子流.
KRI RFICP 140 技术参数:
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阳极
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电感耦合等离子体
1kW & 1.8 MHz
射频自动匹配
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阳极功率
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1kW
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离子束流
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> 500mA
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电压范围
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100-1200V
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离子束动能
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100-1200eV
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气体
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Ar, O2, N2,其他
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流量
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5-40sccm
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压力
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< 0.5mTorr
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离子光学, 自对准
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OptiBeamTM
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离子束栅极
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14cm Φ
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栅极材质
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钼, 石墨
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离子束流形状
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平行,聚焦,散射
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中和器
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LFN 2000
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高度
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25.1 cm
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直径
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24.6 cm
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锁紧安装法兰
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12”CF
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KRI RFICP 140 应用领域：
预清洗
表面改性
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产, 和. 美国历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国中国总代理.
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