因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。
光刻机检漏
上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.
光刻机检漏方法: 采用真空模式检漏, 漏率值设定为 1x10-11pa m3/s.
1. 通过波纹管与光刻机真空系统连接
2. 使用喷枪, 喷扫管路, 腔体焊缝, 接头等部位, 如果存在超过设定漏率值的狭缝, 检漏仪会时时发出声光报警, 同时在屏幕上显示漏率值.
便携式 ASM 310 主要技术参数：
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对氦气的最小检测漏率
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真空模式 5E-13 Pa m3/s ,吸枪模式 1E-8 Pa m3/s
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检测模式
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真空模式和吸枪模式
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无油前级泵抽速
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1.7 m3/h
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检测气体
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4He , 3He, H2
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响应时间
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<1s
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对氦气的抽气速度
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1.1 l/s
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进气法兰
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DN 25 ISO-KF
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进气口max压力
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15 hPa
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通讯接口
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RS-232
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工作温度
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10-40 °C
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噪音水平
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< 45 dB (A)
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尺寸
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350 X 245 X 141 mm
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重量
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21 kg (46 lb)
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鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解, 请联络上海伯东邓女士，分机134