1、研磨后的清洗
研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量(外观和精度)的重要工序。研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青,
少数企业的加工过程中会有漆片。其中研磨粉的型号各异,一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。根据镜片的材质及研磨精
度不同,选择不同型号的研磨粉。在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的,以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。研磨后的清
洗设备大致分为两种:
一种主要使用有机溶剂清洗剂,另一种主要使用半水基清洗剂。
一、有机溶剂清洗采用的清洗流程如下
: 有机溶剂清洗剂(超声波)
水基清洗剂(超声波)
-
市水漂洗
-
纯水漂洗
-IPA
(异丙醇)脱水
-IPA
慢拉干燥。
有机溶剂清洗剂的主要用途是清洗沥青及漆片。
以前的溶剂清洗剂多采用xxxx或三氯乙烯。
由于xxxx属
ODS
(消耗
臭氧层物质)产品,目前处于强制淘汰阶段;而长期使用三氯乙烯易导致职业病,而且由于三氯乙烯很不稳定,容易水解呈酸
性,因此会腐蚀镜片及设备。对此,国内的清洗剂厂家研制生产了非
ODS
溶剂型系列清洗剂,可用于清洗光学玻璃;并且该系
列产品具备不同的物化指标,可有效满足不同设备及工艺条件的要求。比如在少数企业的生产过程中,镜片表面有一层很难处
理的漆片,要求使用具备特殊溶解性的有机溶剂;部分企业的清洗设备的溶剂清洗槽冷凝管较少,自由程很短,要求使用挥发
较慢的有机溶剂;另一部分企业则相反,要求使用挥发较快的有机溶剂等。
水基清洗剂的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是碱金属氧化物,溶剂对其清洗能力很弱,所以镜片加工过程中产生的
研磨粉基本上是在水基清洗单元内除去的,故而对水基清洗剂提出了极高的要求。以前由于国内的光学玻璃专用水基清洗剂品
种较少,很多外资企业都选用进口的清洗剂。而目前国内已有公司开发出光学玻璃清洗剂,并成功地应用在国内数家大型光学
玻璃生产厂,清洗效果xx可以取代进口产品,在腐蚀性(防腐性能)等指标上更是优于进口产品。
对于
IPA
慢拉干燥,需要说明的一点是,某些种类的镜片干燥后容易产生水印,这种现象一方面与
IPA
的纯度及空气湿度
有关,另一方面与清洗设备有较大的关系,尤其是双臂干燥的效果明显不如单臂干燥的好,需要设备厂家及用户注意此点。
二、半水基清洗采用的清洗流程如下
:
半水基清洗剂(超声波)
-
市水漂洗
-
水基清洗剂
-
市水漂洗
-
纯水漂洗
-IPA
脱水
-IPA
慢拉干燥
此种清洗工艺同溶剂清洗相比{zd0}的区别在于,其前两个清洗单元:有机溶剂清洗只对沥青或漆片具有良好的清洗效果,
但却无法清洗研磨粉等无机物;半水基清洗剂则不同,不但可以清洗沥青等有机污染物,还对研磨粉等无机物有良好的清洗效
果,从而大大减轻了后续清洗单元中水基清洗剂的清洗压力。半水基清洗剂的特点是挥发速度很慢,气味小。采用半水基清洗